更新時間:2024-05-05
產(chǎn)品型號:XRS-CHI760E
廠家性質:經(jīng)銷商
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XRS-CHI700E系列是通用雙恒電位儀,可同時控制同一電解池中的兩個工作電極的電位,其典型應用是旋轉環(huán)盤電極,也能被用于其它需要雙工作電極的情況下。雙恒電位儀只能用于同一溶液中的兩個工作電極的電位控制以及電流測量,而不是兩個獨立的恒電位儀。
CHI700E系列是通用雙恒電位儀,可同時控制同一電解池中的兩個工作電極的電位,其典型應用是旋轉環(huán)盤電極,也能被用于其它需要雙工作電極的情況下。雙恒電位儀只能用于同一溶液中的兩個工作電極的電位控制以及電流測量,而不是兩個獨立的恒電位儀。儀器內含快速數(shù)字信號發(fā)生器,用于高頻交流阻抗測量的直接數(shù)字信號合成器,雙通道高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),電位電流信號濾波器,多級信號增益,iR降補償電路,雙恒電位儀,以及恒電流儀(CHI760E)。兩個通道的電位范圍均為+/-10V。電流范圍(兩通道電流之和)為±250mA。CHI700E系列是在CHI600E的基礎上增加了一塊電路板,內含第二通道電位控制電路,電流-電壓轉換器,靈敏度選擇,三個增益級,一個具有八個數(shù)量級可變頻率范圍的二階低通濾波器。CHI700E能夠控制兩個工作電極的電位,允許循環(huán)伏安法,線性掃描伏安法,階梯波伏安法,計時安培法,差分脈沖伏安法,常規(guī)脈沖伏安法,方波伏安法,時間-電流曲線等實驗進行雙工作電極的測量。當用作雙恒電位儀測量時,第二工作電極電位可以保持在獨立的恒定值,也可與工作電極同步掃描或階躍等。在循環(huán)伏安法中,還可與工作電極保持一恒定的電位差而掃描。兩個工作電極的電流測量下限均低于50pA,可直接用于超微電極上的穩(wěn)態(tài)電流測量。CHI700E系列也是十分快速的儀器。信號發(fā)生器的更新速率為10MHz,數(shù)據(jù)采集采用兩個同步16位高分辨低噪聲的模數(shù)轉換器,雙通道同時采樣的速率為1MHz。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時,電位增量僅0.1mV,當掃描速度為5000V/s時,電位增量為1mV。又如交流阻抗的測量頻率可達1MHz,交流伏安法的頻率可達10KHz。儀器還有外部信號輸入通道,可在記錄電化學信號的同時記錄外部輸入的電壓信號,例如光譜信號等。這對光譜電化學等實驗極為方便。
CHI700E除了允許第二工作電極的電位獨立控制在恒定電位外,還允許第二工作電極的電位與工作電極同步掃描或階躍。雙通道同步掃描時,掃速可達10,000 V/s。雙通道同步階躍時,小采樣間隔可達1微秒。由于CHI700E系列是CHI600E系列的拓展,CHI700E系列還可以配備恒電流儀(CHI760E)。CHI700E系列還允許四電極體系,用于液/液界面的電化學測量。
當CHI700E系列用作單恒電位儀的時侯,其性能與CHI600E系列相同。如果與CHI200B微電流放大器及屏蔽箱連接,通道可測量1pA或更低的電流。CHI700E也可和CHI680B大電流放大器相連,從而得到更大的電流和槽壓,但也只能用于單通道的測量。
為了滿足不同的應用需要以及經(jīng)費條件,CHI700E系列又分成多種型號。不同的型號具有不同的電化學測量和功能,但基本的硬件參數(shù)指標和軟件性能是相同的。CHI700E和CHI710E為基本型,CHI720E和CHI730E為綜合電化學分析儀,而CHI750E和CHI760E為更的電化學工作站。
硬件參數(shù)指標
恒電位儀/雙恒電位儀 · 零阻電流計 · 2,3,4電極結構 · 浮動地線或實地 · 兩個通道大電位范圍: ±10 V · 大電流:±250 mA 連續(xù)(兩個通道電流之和), ±350 mA 峰值 · 槽壓:±13 V · 恒電位儀上升時間: 小于 1 ms, 通常 0.8 ms · 恒電位儀帶寬(-3分貝):1 MHz · 所加電位范圍:±10 mV, ±50 mV, ±100 mV, ±650 mV, ±3.276 V, ±6.553 V, ±10 V · 所加電位分辨:電位范圍的0.0015% · 所加電位準確度: ±1 mV,±滿量程的0.01% · 所加電位噪聲:< 10 mV 均方根植 · 測量電流范圍:±10 pA 至 ±0.25 A, 12量程 · 測量電流分辨:電流量程的0.0015%,低 0.3 fA · 電流測量準確度:電流靈敏度大于等于1e-6 A/V時為0.2%,其他量程1% · 輸入偏置電流:< 50 pA 恒電流儀 · 恒電流范圍: 3 nA – 250 mA · 所加電流準確度:如果電流大于 3e-7A時為0.2%,其他范圍為1%,±20 pA · 所加電流分辨率:電流范圍的0.03% · 測量電流范圍: ±0.025 V, ±0.1 V, ±0.25 V, ±1 V, ±2.5 V, ±10 V Electrometer: 電位計 · 參比電極輸入阻抗:1e12 歐姆 · 參比電極輸入帶寬: 10 MHz · 參比電極輸入偏置電流:<= 10 pA @ 25°C 波形發(fā)生和數(shù)據(jù)獲得系統(tǒng) · 快速信號發(fā)生更新速率:10 MHz, 16位分辨 · 快速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng):16位分辨,雙通道同步采樣,采樣速率每秒1,000,000 點 · 外部信號記錄通道采樣速率1M Hz · 可拓展掃描電化學顯微鏡功能 附件 ·電極線 ·USB通訊線 ·電源線 | 實驗參數(shù) · CV和LSV掃描速度: 0.000001V/s 至 10,000 V/s,雙通道同步掃描及采樣至10,000 V/s · 掃描時的電位增量:0.1 mV (當掃速為 1,000 V/s時) · CA和CC的脈沖寬度: 0.0001 至1000 sec · CA的小采樣間隔: 1 ms, 雙通道同步 · CC的小采樣間隔: 1 ms · CC模擬積分器 · DPV和NPV的脈沖寬度:0.001 至 10 sec · SWV頻率: 1 至100 kHz · i-t 的小采樣間隔: 1 ms, 雙通道同步 · ACV頻率范圍:0.1 至 10 kHz · SHACV頻率范圍:0.1 至 5 kHz · FTACV頻率范圍:0.1 至 50Hz,可同時獲取基波,二次諧波,三次諧波,四次諧波,五次諧波,六次諧波的ACV數(shù)據(jù) · 交流阻抗: 0.00001 至 1 MHz · 交流阻抗波形幅度: 0.00001 V 至 0.7 V 均方根值 其他特點 · 自動或手動iR降補償 · 電流測量偏置:滿量程,16位分辨,0.003% 準確度 · 電位測量偏置:±10V,16位分辨,0.003% 準確度 · 外部電位輸入 · 電位和電流的模擬輸出 · 可控電位濾波器的截止頻率: 1.5 MHz, 150 KHz, 15 KHz, 1.5 KHz, 150 Hz, 15 Hz, 1.5 Hz, 0.15 Hz · 可控信號濾波器的截止頻率: 1.5 MHz, 150 KHz, 15 KHz, 1.5 KHz, 150 Hz, 15 Hz, 1.5 Hz, 0.15 Hz · 旋轉電極控制電壓輸出:0-10V 對用于 0-10000 rpm的轉速,16位分辨,0.003% 準確度,需要某些旋轉電極裝置才能工作 · 通過宏命令可以控制數(shù)字輸入輸出線 · 內閃存儲器可迅速更新程序 · 串行口或USB口數(shù)據(jù)通訊 · 電解池控制:通氮,攪拌,敲擊(需要電解池系統(tǒng)) · CV數(shù)字模擬器和擬合器。用戶定義反應機理(CHI730E以上)或預定義反應機理(其他型號) · 交流阻抗模擬器和擬合器(具有交流阻抗測量功能的型號) · 大數(shù)據(jù)長度:256,000-16,384,000 點可選擇 · 儀器尺寸: 37 cm (寬) ′ 23 cm (深) ′ 12 cm (高) |
CHI700E系列儀器不同型號的比較
功能 | 700E | 710E | 720E | 730E | 750E | 760E |
循環(huán)伏安法(CV) | l | l | l | l | l | l |
線性掃描伏安法(LSV)# | l | l | l | l | l | l |
階梯波伏安法(SCV)# | l | l | l | |||
Tafel圖(TAFEL) | l | l | l | |||
計時電流法(CA) | l | l | l | l | l | |
計時電量法(CC) | l | l | l | l | l | |
差分脈沖伏安法(DPV)# | l | l | l | l | l | |
常規(guī)脈沖伏安法(NPV)# | l | l | l | l | l | |
差分常規(guī)脈沖伏安法(DNPV)# | l | |||||
方波伏安法(SWV)# | l | l | l | l | ||
交流(含相敏)伏安法(ACV)# | l | l | l | |||
二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV)# | l | l | l | |||
電流-時間曲線(i-t) | l | l | l | |||
差分脈沖電流檢測(DPA) | l | |||||
雙差分脈沖電流檢測(DDPA) | l | |||||
三脈沖電流檢測(TPA) | l | |||||
積分脈沖電流檢測(IPAD) | l | |||||
控制電位電解庫侖法(BE) | l | l | l | l | l | |
流體力學調制伏安法(HMV) | l | l | ||||
掃描-階躍混合方法(SSF) | l | l | ||||
多電位階躍方法(STEP) | l | l | ||||
交流阻抗測量(IMP) | l | l | ||||
交流阻抗-時間測量(IMPT) | l | l | ||||
交流阻抗-電位測量(IMPE) | l | l | ||||
計時電位法(CP) | l | |||||
電流掃描計時電位法(CPCR) | l | |||||
多電流階躍法(ISTEP) | l | |||||
電位溶出分析(PSA) | l | |||||
電化學噪聲測量(ECN) | l | |||||
開路電壓-時間曲線(OCPT) | l | l | l | l | l | l |
恒電流儀 | l | |||||
RDE控制(0-10V輸出) | l | l | l | l | l | l |
任意反應機理CV模擬器 | l | l | l | |||
預設反應機理CV模擬器 | l | l | l | |||
交流阻抗數(shù)字模擬器和擬合程序 | l | l | ||||
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